CPU制造工藝：
在生產CPU過程中，要加工各種電路和電子元件，制造導線連接各個元器件等。現在其生產的精度以納米（以前用微米）來表示，精度越高，生產工藝越先進。在同樣的材料中可以容納更多的電子元
晶圓局部件，連接線也越細，有利于提高CPU的集成度。制造工藝的納米數是指IC內電路與電路之間的距離。制造工藝的趨勢是向密集度愈高的方向發展，密度愈高的IC電路設計，意味著在同樣大小面積的IC中，可以擁有密度更高、功能更復雜的電路設計。微電子技術的發展與進步，主要是靠工藝技術的不斷改進。芯片制造工藝從1971年開始，經歷了10微米、6微米、3微米、1.5微米、1微米、800納米、600納米、350納米、250納米、180納米、130納米、90納米、65納米、45納米、32納米、22納米、14納米、10納米，一直發展到2019年最新的7納米，而5納米將是下一代CPU的發展目標。
GPU制造工藝：
顯卡的制造工藝實際上就是指顯示核心的制程，它指的是晶體管門電路的尺寸，現階段主要以納米（nm）為單位。顯示芯片的制造工藝與CPU一樣，也是用微米來衡量其加工精度的。制造工藝的提高，意味著顯示芯片的體積將更小、集成度更高，可以容納更多的晶體管。
NVIDIA的GM200芯片采用28nm的制造工藝和中央處理器一樣，顯示卡的核心芯片，也是在硅晶片上制成的。微電子技術的發展與進步，主要是靠工藝技術的不斷改進，顯示芯片制造工藝在1995年以后，從0.5微米、0.35微米、0.25微米、0.18微米、0.15微米、0.13微米、0.11微米、90納米、80納米、65納米、55納米、40納米、28納米、16納米、12納米一直發展到現在的7納米制程。顯卡廠商AMD（超威半導體）已經有三款7nnm工藝顯卡在售。
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